纳米集成电路制造工艺
- 资料名称:纳米集成电路制造工艺
- 英文名称:
- 文件大小:89.13 MB
- 标准类型:行业图书
- 标准语言:中文版
- 授权形式:免费
- 文件类型:PDF文档
- 下载次数:32759 加入收藏
- 标签:
资料介绍
纳米集成电路制造工艺
作者:张汝京 编著
出版时间:2014年版
内容简介
《纳米集成电路制造工艺》共分19章,涵盖先进集成电路工艺的发展史,集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化,器件参数与工艺相关性,DFM(Design for Manufacturing),集成电路检测与分析、集成电路的可靠性,生产控制,良率提升,芯片测试与芯片封装等项目和课题。国内从事半导体产业的科研工作者、技术工作者和研究生可使用《纳米集成电路制造工艺》作为教科书或参考资料。
目录
第1章 半导体器件
1.1 N型半导体和P型半导体
1.2 二极管
1.3 金属氧化物半导体场效晶体管
1.4 电容和电感
第2章 集成电路制造工艺发展趋势
2.1 引言
2.2 横向微缩所推动的工艺发展趋势
2.2.1 光刻技术
2.2.2 沟槽填充技术
2.2.3 互连层RC延迟的降低
2.3 纵向微缩所推动的工艺发展趋势
2.3.1 等效栅氧厚度的微缩
2.3.2 源漏工程
2.3.3 自对准硅化物工艺
2.4 弥补几何微缩的等效扩充
2.4.1 高k金属栅
2.4.2 载流子迁移率提高技术
2.5 展望
参考文献
第3章 CMOS逻辑电路及存储器制造流程
3.1 逻辑技术及工艺流程
3.1.1 引言
3.1.2 CMOS工艺流程
3.2 存储器技术和制造工艺
3.2.1 概述
3.2.2 DRAM和eDRAM
3.2.3 闪存
3.2.4 FeRAM
3.2.5 PCRAM
3.2.6 RRAM
3.2.7 MRAM
参考文献
第4章 电介质薄膜沉积工艺
4.1 前言
4.2 氧化膜/氮化膜工艺
4.3 栅极电介质薄膜
4.3.1 栅极氧化介电层-氮氧化硅(SiOxNy)
4.3.2 高k栅极介质
4.4 半导体绝缘介质的填充
4.4.1 高密度等离子体化学气相沉积工艺
4.4.2 O3-TEOS的亚常压化学气相沉积工艺
4.5 超低介电常数薄膜
4.5.1 前言
4.5.2 RC delay对器件运算速度的影响
4.5.3 k为2.7-3.0的低介电常数材料
4.5.4 k为2.5的超低介电常数材料
4.5.5 Etching stop layer and copper barrier介电常数材料
参考文献
第5章 应力工程
5.1 简介
5.2 源漏区嵌入技术
5.2.1 嵌入式锗硅工艺
5.2.2 嵌入式碳硅工艺
5.3 应力记忆技术
5.3.1 SMT技术的分类
5.3.2 SMT的工艺流程
5.3.3 SMT氮化硅工艺介绍及其发展
5.4 双极应力刻蚀阻挡层
5.5 应力效应提升技术
参考文献
第6章 金属薄膜沉积工艺及金属化
6.1 金属栅
6.1.1 金属栅极的使用
6.1.2 金属栅材料性能的要求
6.2 自对准硅化物
6.2.1 预清洁处理
6.2.2 镍铂合金沉积
6.2.3 盖帽层TiN沉积
6.3 接触窗薄膜工艺
6.3.1 前言
6.3.2 主要的问题
6.3.3 前处理工艺
6.3.4 PVD Ti
6.3.5 TiN制程
6.3.6 W plug制程
6.4 金属互连
6.4.1 前言
6.4.2 预清洁工艺
6.4.3 阻挡层
6.4.4 种子层
6.4.5 铜化学电镀
6.4.6 洗边和退火
6.5 本章 总结
参考文献
第7章 光刻技术
第8章 干法刻蚀
第9章 集成电路制造中的污染和清洗技术
第10章 超浅结技术
第11章 化学机械平坦化
第12章 器件参数和工艺相关性
第13章 可制造性设计
第14章 半导体器件失效分析
第15章 集成电路可靠性介绍
第16章 集成电路测量
第17章 良率改善
第18章 测试工程
第19章 芯片封装
作者:张汝京 编著
出版时间:2014年版
内容简介
《纳米集成电路制造工艺》共分19章,涵盖先进集成电路工艺的发展史,集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化,器件参数与工艺相关性,DFM(Design for Manufacturing),集成电路检测与分析、集成电路的可靠性,生产控制,良率提升,芯片测试与芯片封装等项目和课题。国内从事半导体产业的科研工作者、技术工作者和研究生可使用《纳米集成电路制造工艺》作为教科书或参考资料。
目录
第1章 半导体器件
1.1 N型半导体和P型半导体
1.2 二极管
1.3 金属氧化物半导体场效晶体管
1.4 电容和电感
第2章 集成电路制造工艺发展趋势
2.1 引言
2.2 横向微缩所推动的工艺发展趋势
2.2.1 光刻技术
2.2.2 沟槽填充技术
2.2.3 互连层RC延迟的降低
2.3 纵向微缩所推动的工艺发展趋势
2.3.1 等效栅氧厚度的微缩
2.3.2 源漏工程
2.3.3 自对准硅化物工艺
2.4 弥补几何微缩的等效扩充
2.4.1 高k金属栅
2.4.2 载流子迁移率提高技术
2.5 展望
参考文献
第3章 CMOS逻辑电路及存储器制造流程
3.1 逻辑技术及工艺流程
3.1.1 引言
3.1.2 CMOS工艺流程
3.2 存储器技术和制造工艺
3.2.1 概述
3.2.2 DRAM和eDRAM
3.2.3 闪存
3.2.4 FeRAM
3.2.5 PCRAM
3.2.6 RRAM
3.2.7 MRAM
参考文献
第4章 电介质薄膜沉积工艺
4.1 前言
4.2 氧化膜/氮化膜工艺
4.3 栅极电介质薄膜
4.3.1 栅极氧化介电层-氮氧化硅(SiOxNy)
4.3.2 高k栅极介质
4.4 半导体绝缘介质的填充
4.4.1 高密度等离子体化学气相沉积工艺
4.4.2 O3-TEOS的亚常压化学气相沉积工艺
4.5 超低介电常数薄膜
4.5.1 前言
4.5.2 RC delay对器件运算速度的影响
4.5.3 k为2.7-3.0的低介电常数材料
4.5.4 k为2.5的超低介电常数材料
4.5.5 Etching stop layer and copper barrier介电常数材料
参考文献
第5章 应力工程
5.1 简介
5.2 源漏区嵌入技术
5.2.1 嵌入式锗硅工艺
5.2.2 嵌入式碳硅工艺
5.3 应力记忆技术
5.3.1 SMT技术的分类
5.3.2 SMT的工艺流程
5.3.3 SMT氮化硅工艺介绍及其发展
5.4 双极应力刻蚀阻挡层
5.5 应力效应提升技术
参考文献
第6章 金属薄膜沉积工艺及金属化
6.1 金属栅
6.1.1 金属栅极的使用
6.1.2 金属栅材料性能的要求
6.2 自对准硅化物
6.2.1 预清洁处理
6.2.2 镍铂合金沉积
6.2.3 盖帽层TiN沉积
6.3 接触窗薄膜工艺
6.3.1 前言
6.3.2 主要的问题
6.3.3 前处理工艺
6.3.4 PVD Ti
6.3.5 TiN制程
6.3.6 W plug制程
6.4 金属互连
6.4.1 前言
6.4.2 预清洁工艺
6.4.3 阻挡层
6.4.4 种子层
6.4.5 铜化学电镀
6.4.6 洗边和退火
6.5 本章 总结
参考文献
第7章 光刻技术
第8章 干法刻蚀
第9章 集成电路制造中的污染和清洗技术
第10章 超浅结技术
第11章 化学机械平坦化
第12章 器件参数和工艺相关性
第13章 可制造性设计
第14章 半导体器件失效分析
第15章 集成电路可靠性介绍
第16章 集成电路测量
第17章 良率改善
第18章 测试工程
第19章 芯片封装
相关资料
- 一看就会系列丛书 万用表使用技能一看就会 韩雪涛 主编 2017年版
- 卫星导航原理与系统 皮亦鸣,曹宗杰,闵锐 编著 2011年版
- 显示器维修完全学习手册(实战范例教学) [杨晖,张军 编著] 2010年版
- 平板电视集成电路实用手册(LCDTV、PDPTV专集) [冼有佳,胡世伟 编著] 2011年版
- 电路与模拟电子学 第2版 王成华,潘双来,江爱华编著(南京航空航天大学信息学院) 2007年版
- 电子工业科技成果选编 1978 第四机械工业部技术情报研究所编辑 1979年版
- 通信电子线路 严国萍,龙占超编著 2005年版
- 电子技术 郑丽敏主编 2018年版
- 最新高职考试电子技术类专业应试指南 2016 胡萍主编 2015年版
- 电子与嵌入式系统设计丛书 FPGA Verilog开发实战指南:基于Intel Cyclone IV(进阶篇) 刘火良,杨森,张硕 著 2021年版
下载说明
本站资源使用网盘存储,可以一键转存和下载,下载速度一流;本站资源均为RAR/ZIP 格式压缩,为确保资源能够正常使用,需使用【WinRAR】等进行解压;
本站资源解压后格式为PDF的,为保证正常使用,推荐【Adobe Reader 8.0】以上版本进行阅读;
如果您发现文件无法下载,请稍后再次尝试;若依然如此,请到 报错页面 告诉我们。
本站提供的标准文件一般为PDF格式,如果您需要Word版本,可搜索【PDF转换成Word软件】进行转换;
本站资料均为网上收集,若无意中侵犯了您的版权,请与我们联系;
本站资料仅供学习交流之用,请下载后24小时内删除。正式场合使用,请购买正版;